Teknologi perpipaan gas dengan kemurnian tinggi merupakan bagian penting dari sistem pasokan gas dengan kemurnian tinggi, yang merupakan teknologi utama untuk mengirimkan gas dengan kemurnian tinggi yang diperlukan ke titik penggunaan dan tetap mempertahankan kualitas yang memenuhi syarat;Teknologi perpipaan gas dengan kemurnian tinggi mencakup desain sistem yang benar, pemilihan alat kelengkapan dan aksesori, konstruksi dan pemasangan, serta pengujian.Dalam beberapa tahun terakhir, persyaratan yang semakin ketat pada kemurnian dan kandungan pengotor gas kemurnian tinggi dalam produksi produk mikroelektronika yang diwakili oleh sirkuit terpadu skala besar telah membuat teknologi perpipaan gas kemurnian tinggi semakin diperhatikan dan ditekankan.Berikut ini adalah gambaran singkat tentang pipa gas kemurnian tinggi dari pemilihan material konstruksi, serta penerimaan dan manajemen harian.
Jenis gas umum
Klasifikasi gas umum dalam industri elektronik：
Gas umumGas curah）: hidrogen (H2), nitrogen (N2), oksigen (O2), argon (A2), dll.
Gas khususadalah SiH4 ,PH3 ,B2H6 ,A8H3 ,CL ,HCL ,CF4 ,NH3, POCL3, SIH2CL2 SIHCL3 ,NH3, BCL3 ,SIF4 ,CLF3 ,CO ,C2F6, N2O ,F2, HF ,HBR SF6 ...... dll.
Jenis gas khusus umumnya dapat diklasifikasikan sebagai gas korosif, gas beracun, gas yang mudah terbakar, gas yang mudah terbakar, gas inert, dll. Gas semikonduktor yang umum digunakan umumnya diklasifikasikan sebagai berikut.
(i) Gas korosif / beracun: HCl , BF3, WF6, HBr , SiH2Cl2, NH3, PH3, Cl2, BCl3 ...dll.
(ii) Gas yang mudah terbakar: H2, CH4, SiH4, PH3, AsH3, SiH2Cl2, B2H6, CH2F2, CH3F, CO...dst.
(iii) gas yang mudah terbakar: O2, Cl2, N2O, NF3 ... dll.
(iv) Gas inert: N2, CF4, C2F6, C4F8, SF6, CO2, Ne, Kr, He...dst.
Banyak gas semikonduktor yang berbahaya bagi tubuh manusia.Secara khusus, beberapa gas ini, seperti pembakaran spontan SiH4, selama kebocoran akan bereaksi hebat dengan oksigen di udara dan mulai terbakar;dan AsH3 sangat beracun, kebocoran sekecil apa pun dapat menyebabkan risiko kehidupan manusia, karena bahaya yang jelas ini, sehingga persyaratan untuk keselamatan desain sistem sangat tinggi.
Lingkup aplikasi gas
Sebagai bahan baku penting industri modern, produk gas banyak digunakan, dan sejumlah besar gas umum atau gas khusus digunakan dalam metalurgi, baja, minyak bumi, industri kimia, mesin, elektronik, kaca, keramik, bahan bangunan, konstruksi , pengolahan makanan, obat-obatan dan sektor medis.Penerapan gas memiliki dampak penting pada teknologi tinggi bidang ini khususnya, dan merupakan bahan baku gas atau gas proses yang sangat diperlukan.Hanya dengan kebutuhan dan promosi berbagai sektor industri baru dan ilmu pengetahuan dan teknologi modern, produk industri gas dapat dikembangkan dengan pesat dalam hal keragaman, kualitas dan kuantitas.
Aplikasi gas dalam industri mikroelektronika dan semikonduktor
Penggunaan gas selalu memainkan peran penting dalam proses semikonduktor, terutama proses semikonduktor telah banyak digunakan di berbagai industri, dari ULSI tradisional, TFT-LCD hingga industri mikro-elektro-mekanis (MEMS) saat ini, semuanya yang menggunakan apa yang disebut proses semikonduktor sebagai proses pembuatan produk.Kemurnian gas memiliki dampak yang menentukan pada kinerja komponen dan hasil produk, dan keamanan pasokan gas terkait dengan kesehatan personel dan keselamatan operasi pabrik.
Pentingnya perpipaan dengan kemurnian tinggi dalam pengangkutan gas dengan kemurnian tinggi
Dalam proses peleburan dan pembuatan bahan stainless steel, sekitar 200g gas dapat diserap per ton.Setelah pengolahan stainless steel, tidak hanya permukaannya yang lengket dengan berbagai kontaminan, tetapi juga pada kisi-kisi logamnya juga menyerap sejumlah gas.Ketika ada aliran udara melalui pipa, logam yang menyerap bagian gas ini akan masuk kembali ke aliran udara, mencemari gas murni.Ketika aliran udara dalam tabung adalah aliran terputus-putus, tabung menyerap gas di bawah tekanan, dan ketika aliran udara berhenti lewat, gas yang diserap oleh tabung membentuk penurunan tekanan untuk diselesaikan, dan gas yang diselesaikan juga memasuki gas murni di
Konsep umum teknologi bersih untuk jaringan pipa transmisi dan distribusi
Transmisi bodi gas yang sangat murni dan bersih dengan perpipaan berarti ada persyaratan atau kontrol tertentu untuk tiga aspek gas yang akan diangkut.
Kemurnian gas: Kandungan atmosfer pengotor dalam gGas kemurnian: Kandungan atmosfer pengotor dalam gas, biasanya dinyatakan sebagai persentase kemurnian gas, seperti 99,9999%, juga dinyatakan sebagai rasio volume kandungan atmosfer pengotor ppm, ppb, hal.
Kekeringan: jumlah jejak uap air dalam gas, atau jumlah yang disebut kebasahan, biasanya dinyatakan dalam titik embun, seperti titik embun tekanan atmosfer -70.C.
Kebersihan: jumlah partikel kontaminan yang terkandung dalam gas, ukuran partikel m, berapa banyak partikel/M3 untuk diungkapkan, untuk udara bertekanan, biasanya juga dinyatakan dalam berapa mg/m3 residu padat yang tidak dapat dihindari, yang mencakup kandungan minyak .
Klasifikasi ukuran polutan: partikel polutan, terutama mengacu pada gerusan pipa, keausan, korosi yang dihasilkan oleh partikel logam, partikel jelaga atmosfer, serta mikroorganisme, fag dan tetesan kondensasi gas yang mengandung uap air, dll., sesuai dengan ukuran ukuran partikelnya dibagi menjadi
a) Partikel besar - ukuran partikel di atas 5μm
b) Partikel - diameter material antara 0,1μm-5μm
c) Partikel ultra-mikro - ukuran partikel kurang dari 0,1μm.
Untuk meningkatkan penerapan teknologi ini, untuk dapat memahami perseptual ukuran partikel dan satuan m, satu set status partikel tertentu disediakan untuk referensi.
Berikut ini adalah perbandingan partikel tertentu
Nama /Ukuran partikel (µm) Nama /Ukuran partikel (µm) Nama/ Ukuran partikel m
Virus 0,003-0,0 Aerosol 0,03-1 Mikrodroplet aerosol 1-12
Bahan bakar nuklir 0,01-0,1 Cat 0,1-6 Fly ash 1-200
Karbon hitam 0,01-0,3 Susu bubuk 0,1-10 Pestisida 5-10
Resin 0,01-1 Bakteri 0,3-30 Debu semen 5-100
Asap rokok 0,01-1 Debu pasir 0,5-5 Serbuk sari 10-15
Silikon 0,02-0,1 Pestisida 0,5-10 Rambut manusia 50-120
Garam mengkristal 0,03-0,5 Debu belerang terkonsentrasi 1-11 Pasir laut 100-1200